76
Asos sifatida sitallar keng qo‘llaniladi. Uning tavsifnomalari:
issiqlik qaytarish koeffitsiyenti 1,5 W/(m · °Ñ),
= 5—8,8;
tg
= 20 · 10
-4
. Sitallar yuqori mexanik mustahkamlikka ega va
oson qayta ishlanadi, vakuumda oson gazsizlantiriladi. Asoslari
0,6 dan 1,6 mm gacha o‘lchamlarda bo‘lgan to‘g‘ri burchakli
plastinalar ko‘rinishiga ega.
Asos sifatida yana past dielektrik singdiruvchanlikka ega
keramika 22XS, polikor, sapfir ham qo‘llanilishi mumkin. Ular,
asosan, 96% Al
2
O
3
dan tashkil topgan, polikor esa Al
2
O
3
ning
nazariy zichligiga ega, sapfir titan bilan temir qorishmasidan iborat.
Bu materiallar murakkab ishlab chiqarish texnologiyasini talab
qiladilar. Ular yuqori issiqbardoshlikka (ishchi temperaturasi
1600°C gacha), yuqori temperaturalarda katta
= 10
7
—10
14
· m
va kichik tg
= (10—18) · 10
-4
qiymatlarga, o‘ta yuqori mexanik
mustahkamlikka va issiqlik o‘tkazuvchanlikka ega.
Sapfir KNS (sapfirdagi kremniy) — texnologiya yordamida
yarimo‘tkazgichli katta integral sxemalarni tayyorlashda qo‘llani-
ladi. Uning asosi KNS strukturali yarimo‘tkazgichlar hosil qilish
hisoblanadi. Sapfirda kremniy epitaksial qatlami o‘stiriladi va unda
katta integral sxema struktura elementlari hosil qilinadi.
Dostları ilə paylaş: