Ministry of education of azerbaijan republic sumgayit state university

Magistrantların XXI Respublika Elmi konfransı, 17-18 may 2021-ci il 
141 
Beləliklə, 1-naftolun metanolla alkilləşmə reaksiyasına su buxarının müsbət təsiri nəticəsində alınan 2-
metil-1-naftolun selektivliyinin artması və daha optimal H-mordenit kimi modulu 24 olan seolitin 
götürülməsi məqsədəuyğun sayılmışdır.
POLİTSİKLOPROPİLMETİL (MET) AKRİLATLARIN FOTOHƏSSASLIQ 
XASSƏLƏRİNİN ÖYRƏNİLMƏSİ 
Xanbabayeva G.C. 
Sumqayıt Dövlət Universiteti 
 
Məlumdur ki, makromolekullarında aktiv funksional qruplar, o cümlədən

C=O, 

C=C˂, -N
3 
və s. 
fraqmentləri saxlayan yüksəkmolekullu birləşmələr mikroelektronikada inteqral mikrosxemlərin 
hazırlanmasında işığahəssas materiallar kimi geniş istifadə olunurlar. Belə polimerlərin işıq enerjisinə qarşı 
yüksək həssaslıq nümayiş etdirmələri yuxarıda göstərilən funksional qrupların və fraqmentlərin fotokimyəvi 
reaksiyalara meyllilikləri ilə əlaqədardır. Polimer təbəqələrinin şüalandırılması zamanı fotokimyəvi 
reaksiyalar nəticəsində şüalandırılmış hissə ya həllolmayan hala keçir (neqativ fotorezistlər alındıqda tikilmiş 
quruluş alınır), ya da asan həll olan (pozitiv fotorezistlər alındıqda) hala keçir. Bir sıra polimer materiallar 
müxtəlif şüa mənbələrinə qarşı yüksək həssaslıq nümayiş etdirsələr də, onların əsasında alınan təbəqələr 
aşağı termiki davamlılığa və möhkəmliyə malik olduqlarına görə fotorezistlərin hazırlanmasında istifadə 
edilə bilmirlər. Ona görə də müasir dövrdə mikroelektronikanın artmaqda olan tələblərinə hərtərəfli cavab 
verən işığahəssas polimerlərin alınması ən aktual məsələlərdəndir.
Tərəfimizdən alınan politsiklopropilmetil (met) akrilatların makromolekullarında müxtəlif şüa 
mənbələrinin təsirindən tikilmə (tsiklopropan həlqəsi) və destruksiya (asimmetrik karbon atomu) 
proseslərinə uğrayan fotohəssas qrupların olması, həmin polimerlərin həm neqativ, həm də pozitiv tip 
fotorezistlərin hazırlanmasında istifadəsinə imkan verir.
Politsiklopropilmetil (met) akrilatlar tərəfimizdən akril və metakril turşularının xloranhidrinlərinin 
trietilamin iştirakında aşağı temperaturda müvafiq tsiklopropil karbinollarla qarşılıqlı təsirindən alınmış 
müvafiq tsiklopropilmetil (met) akrilatların inisiator kimi azobisizoyağ turşusunun dinitrili iştirakında 60
0
C 
temperaturda benzol məhlulunda polimerləşməsi ilə alınmışdır: 
Sintez edilmiş homopolimerlərin quruluşları İQ- və PMR- spektrlərinin köməyi ilə təyin edilmiş və 
yüksək molekul kütləyə malik polimerlərin alınması üçün polimerləşmə prosesinin optimal şəraiti müəyyən 
edilmişdir. 
Aparılan təcrübi sınaqlar nəticəsində müəyyən olunmuşdur ki, politsiklopropilmetil (met) akrilatlarda 
hər iki proses eyni vaxtda gedir və nəticədə destruksiya prosesi, tikilmə prosesini üstələyir. Bununla əlaqədar 
olaraq həmin polimerlər pozitiv tip fotorezistlərin alınmasında istifadə edilə bilərlər. Politsiklopropilmetil 
akrilatların makromolekullarında isə şüalanma nəticəsində asanlıqla qırıla bilən tsiklopropan həlqələrinin 
olması həmin polimerlər əsasında neqativ tip fotorezistlərin alınmasına imkan verir.
Aparılan tədqiqatlar nəticəsində müəyyən edilmişdir ki, politsiklopropilmetil metakrilatlar pozitiv tip, 
politsiklopropilmetil akrilatlar isə neqativ fotorezistlərin hazırlanmasında yüksək effektivliyə malik 
işığahəssas polimerlər kimi istifadə edilə bilərlər. 

---