Magistrantların XV Respublika Elmi konfransı, 14-15 may 2015-ci il
174
Metalların duzlarının məhlullarını hazırlamaq üçün onların kimyəvi təmiz duzlarından istifadə
edilmişdir.
Sistemdə lazımı pH- yaratmaq üçün ammoyak-asetat bufer məhlulların-dan istifadə edilmişdir.
β-diketonların azotörəmələrindən molekulun aromatik hissəsində orto vəziyyətdə -OH qrupu
saxlayan reagentlərin dəmir (III ) əmələ gətirdikləri rəngli kompleks birləşmələri spektrofotometrik
metodla tədqiq edilmişdir. Reagentlərin tautomer formalarının müxtəlif pH-da kütlə hissələrini
hesablamaq üçün ifadələr verilmişdir. Göstərilmişdir ki, β-diketonların azotörəmələrində molekulun
aromatik hissəsinə metis-vəziyyətdə daxil edilmiş funksional qruplar onların reaksiya girmə qabiliyyətinə
ciddi təsir göstərir, yəni lgK=f(λ), lgK=f(ε), lgK=f(pH), lgK=f(ζ), korrelyasiyaları mümkündür. Müəyyən
edilmişdir ki, molekulunA β-diketon fraqmentinə daxil edilmiş funksional qruplarda onların xassələrini
dəyişdirir. β-diketon fraqmentinə daxil edilmiş funksional qrupların (C
6
H
5
, -OC
2
H
5
, CH
3
) təbiətindən asılı
olaraq komplekslərin optiki sıxlığı uyğun olaraq ani və digər itkisi isə 20 dəqiqəyə sabitləşir. Astaxov
metodu ilə kompleksəmələgəlmə zamanı ayrılan protonların sayı təyin edilmiş və reaksiyanın mexanizmi,
kompleksəmələ gəlməyə kənar ionların və pərdələyici maddələrin təsiri öyrənilmişdir. Müəyyən
edilmişdir ki, β-diketonların azotörəmələri dəmirin təyinində yüksək seçiciliyə malikdir.
METĠLENDĠOKSOLANLAR VƏ KÜKÜRD QAZI ƏSASINDA ALINAN
POLĠSULFONLARIN FOTO VƏ ELEKTRONA HƏSSASLIQ XASSƏLƏRĠNĠN TƏDQĠQĠ
Həsənova A.B.
Sumqayıt Dövlət Universiteti
Müasir dövrdə texnikanın sürətli inkişafı mikroelektronikada submikron ölçülü inteqral
mikrosxemlərin hazırlanmasında istifadə olunan müxtəlif şüa mənbələrinə qarşı yüksək həssaslığa malik
rezistiv materialların alınması tələbini qarşıya qoyur. Təlabata görə bu sahədə istifadə olunan polimerlər
yüksək adgeziya möhkəmliyinə malik nazik örtük əmələ gətirməli, müxtəlif şüa mənbələrinə qarşı yüksək
həssaslığa və ayırdetmə qabiliyyətinə və s. malik olmalıdırlar. Polimerlərin foto-və elektronhəssaslığı əsas
etibarı ilə onların kimyəvi quruluşundan asılıdır.
Makromolekulunda xromofor qruplar, o cümlədən ikiqat rabitə, karbonil və sulfo qruplar, tsiklik
quruluşlu fraqmentlər və s. saxlayan yüksəkmolekullu birləşmələr fotolitoqrafik proseslərdə fotorezist
kimi geniş istifadə olunurlar.
Qeyd olunanlarla əlaqədar olaraq tərəfimizdən metilendioksolanların kükürd qazı ilə birgə
polimerləşməsilə alınan polisulfonların fotolitoqrafik xassələri tədqiq edilmişdir. 4-metilen və 4-metilen-
2-metil-1,3-dioksolanların kükürd qazı ilə birgə polimerləşməsi-15’ -20
0
C temperaturda inisiator kimi
izoprpilbenzolun hidroperoksidi iştirakında aseton məhlulunda aparılmışdır. Fiziki-kimyəvi tədqiqat
üsullarının köməyilə müəyyən edilmişdir ki, alınan polisulfonların makromolekulları həm dioksolan
həlqəsinin saxlanılması, həm də onun qırılması ilə xətti quruluşlu ketoefir fraqmentli elementar
manqalardan təşkil olunmuşdur:
nCH
2
=C–CH
2
+ nSO
2
(CH
2
– C - SO
2
)
m
(CH
2
–C -CH
2
-O-CH-SO
2
)
n-m
O O O CH
2
O R
/
H R
/
H O
R
/
R
/
= H,CH
3
Məlumdur ki, polisulfonların əsas tətbiq sahələrindən biri mikro elektronikadır. Bununla əlaqədar
olaraq sintez edilmiş polisulfonların foto və elektrona həssaslıq xassələri tədqiq edilmişdir. Müəyyən
edilmişdir ki, metilen dioksolanlarla kükürd qazı əsasında alınan polisulfonlar mikroelektronikanın
müasir tələblərinə cavab verir və onlar inteqral mikrosxemlərin hazırlanmasında yüksək effektliyə malik
işığa həssas materiallar kimi istifadə edilə bilərlər.
Sintez edilmiş polisulfonların həmçinin termiki xassələri də öyrənilmişdir. Göstərilmişdir ki,
polisulfonların destruksiya prosesi 200
0
C-dən yuxarıda kükürd qazının ayrılması ilə müşayət olunur.